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열물성 분석 제품

나노입자 박막형성

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Arc-Plasma법 나노입자형성장치 APD시리즈

펄스 진공 아크 방전을 이용한 새로운 나노 입자 형성장치입니다.
펄스 진공 아크 증착은, 심플한 공정으로 금속 이온을 생성하고, 초박막이나 나노 입자를 형성하는 유일한 방법입니다.
미립자의 형성 등 다른 증착법으로는 얻을 수 없는 효과를 발휘합니다.
   ■ Arc-Plasma method nano-particle Deposition System APD series   펄스진공 아크 방전을 이용한 새로운 나노 입자 형성장치입니다. 미립자의 형성 등 다른 증착법으로는 얻을수 없는 효과를 발휘합니다.​   A new nanoparticle deposition systemusing pulse vacuum arc discharge. Pulse vacuum arc deposition is a uniquetechnique to deposit ultra-thin films and nanoparticles by generating metalions in a simple process.  It can achieve an effect that cannot be obtained withother deposition methods such as particle deposition.   ■ 용도 • APD-P (분말에 나노 입자 담지용)     나노입자를 이용한 연료전지 촉매, 배기가스 촉매, 광 촉매     VOC 분산 촉매, 탄소나노튜브 촉매, 플라스몬 • APD-S (기판 성막용)     금속박막(자성, 플라스몬, 보호막) • APD-H (수소 프로세스를 사용한 기판 성막용)     DLC를 이용한 기계부품마모 코팅     초미세결정 다이아몬드를 이용한 렌즈 금형 코팅 • APDT-1S (탁상형 간이 성막용)     기판성막용, DLC 탄소나노튜브 촉매   ■ 특징 • APD-P     나노입자를 분체 등에 담지 가능. • APD-S     나노미터정도 두께의 막에서부터 μm오더의 두께 제어까지 펄스 수로 쉽게 막 두께 제어 가능. • APD-H     결정다이아몬드처럼 단단하고, 열전도성, 내열성이 우수한 ultra-microcrystal diamond를 직접 성막 가능. • APDT-1S     나노미터레벨 두께의 막을 펄스 수로 쉽게 막 두께 제어 가능.   ■ 사양 모델 APD-P APD-S  APD-H  APDT-1S 온도 범위  RT (※) 500 ℃   500 ℃  RT (※) 시료 치수  분말 20cc 2in  2in  2in 증착 분위기  진공  진공  진공 진공 증착원 수  기본적인 증착 재료 (타겟)   Pt, Au, Ag, Fe, Ni, Al   증착원은 고객 요구에 따라 검토 · 제안해 드립니다   1 증착원 ※ 옵션으로 500℃까지 증착가능