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광통신 반도체 제품

광학접착제

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광통신에 이용되는 접착 기술은 당사의 핵심 기술 중 하나입니다. 저렴한 가격에 고신뢰성의 광부품을 실용화하기 위해서는 쉽게 접착되고, 내구성이 뛰어난 접착제가 필요합니다. 광 부품의 어떤 부분에 사용하는지에 따라 요구 조건도 달라집니다. 굴절률 정합, 정밀 고정, 내열 고탄성, 저 투습율 등 고객의 요구에 맞게, 접착제 및 수지를 개발하여 상품화하고 있습니다

나노임프린팅용 수지

나노임프린팅용 수지(Nanoimprinting resin)

Precision, high-throughput, high-refractive index resin nanoimprint / 이 수지는 고굴절률을 특징으로 한 UV 나노임프린팅용 수지이며, 고굴절률에 의한 기능성 정밀패턴 제작에 적용할 수 있습니다.

■ 나노임프린팅이란? 

 

나노 스케일요철 패턴형성한 스탬퍼수지를 도포된 기판에 눌러 가열하거나 광경화를 실시하여 수지요철 패턴전사(傳寫)하는 가공기술입니다.
기존나노 스케일 가공기술에 비해 간편하고 저렴한 비용으로 가공할 수 있기 때문에 차세대 대량생산 기술주목받고 있습니다.  


 

 ■ UV 나노임프린팅 제작 개념도

nanoimprintresin_01.gif

 

이 수지는 고 굴절률을 특징으로 한 UV 나노임프린팅용 수지이며, 고 굴절률에 의한 기능성 정밀 패턴 제작에 적용할 수 있습니다.

  제작 예

                   Hole Pattern

Hole Pattern
p10019_2_2.jpg
Line & Space pattern
p10019_3_2c.jpg
Pillar pattern


■ 나노 임프린트 용 수지 3 가지 특징

고정밀 가공을 실현

UV 나노 임프린트는 가열 공정이 불필요하고, 나노 수준의 고정밀 임프린트가 가능합니다.

수지 특성의 사용자 맞춤형 가능

당사의 광학 접착제 제작으로 축적된 접착제의 특성조정 기술은 굴절률, 점도 등 특성을 사용자 맞춤형이 가능합니다.

높은 투과율

고 굴절률 재료 임에도 불구하고 파장 450nm 대역에서 높은 투과율을 실현하고 있습니다.

 

 정밀성과 높은 투과성

날인 패턴 사진 

인프린트 패턴 사진

전사(傳寫)한 나노임프린팅 패턴의 SEM 사진(Pillar pattern)입니다. 정밀하게 몰드의 패턴이 전사(傳寫)되어 있습니다.

 

p10019_8_1.gif

  투과율의 파장의존성

 

파장 400nm 이상의 투과율은 90 % 이상으로 높습니다.

 


 특성

  항목 조건 단위 # 18210
경화 전 물성 점도 25 ℃ mPa · s 15
경화 조건 프리 베이크 - - 115 ℃ 1min
자외선 경화 - - 100mW / cm 2
5min
경화 후의 특성 굴절률 25 ℃ - 1.77 (405nm)
아베 수 25 ℃ - 30
유리 전이 온도 동적 점탄성 : tanδ max 의 온도 - 100
투과율 두께 2μm % 94 (450nm)
95 (540nm)
95 (630nm)

 주의 : 데이터는 측정값으로 보증값은 아닙니다.