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열물성 분석 제품

적외선가열로 · RTA장치

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적외선골드이미지로 Ps, Pss시리즈

탄소나노튜브의 생산 설비와 생산 장비까지 다양한 분야에서 사용할 수 있습니다.
평판 면상 방사형 적외선 가열로는 φ 2in ~ φ 300mm까지 웨이퍼용 어닐링 시스템과 생산용 소성로 등에 이용할 수 있습니다.
■  Infrared Gold Image Furnace Ps, Pss series   탄소나노튜브의 생산 설비와 생산 장비까지 다양한 분야에서 사용할 수 있습니다.평판 면상 방사형 적외선 가열로는 φ 2in ~ φ 300mm까지 웨이퍼용 어닐링 시스템과 생산용 소성로 등에 이용할 수 있습니다. Usable in wide range of fields from carbon nanotube growth systems to production systems. Flat reflection type infrared furnaces can be used in systems like wafer annealing systems from φ 2-inches to φ 300 mm and production baking furnaces. ​ ■ 용도 대형 유리 기판 (태양전지, FDP 등)의 가열 반도체 웨이퍼의 고온 고속가열 Heating large glass substrates (solar cells, flat display panels, etc.) High-temperature, high-speed heating of semiconductor wafers   ■ 특징 Ps 타입은 폭 40mm 반사면을 갖추었으며 Pss 타입은 폭 20mm 반사면에 고밀도 램프의 배치가 가능합니다. Ps , Pss 타입 모두 반사면의 수를 늘려 넓은 면적을 가열 가능합니다. The Ps type has a 40 mm wide reflector, the Pss type has a 20 mm wide reflector, which allows high density lamp placements. Both the Ps type and Pss type can heat wide areas by increasing the number of reflectors.   ■ 사양  모델 Ps15V Ps18V Ps110V Ps116V 열처리 영역 약 30mm × 50mm  약 30mm × 70mm 약 30mm × 90mm 약 30mm × 140mm               모델 Ps35V Ps38V Ps310V Ps316V 열처리 영역 약 80mm × 50mm  약 80mm × 70mm 약 80mm × 90mm 약 80mm × 140mm    모델 Pss34V Pss78V Pss1108V Pss35V 열처리 영역 약 50mm × 30mm   약 100mm × 70mm 약 100mm × 110mm 약 50mm × 50mm     모델 Pss38V Pss310V Pss316V Pss98V 열처리 영역 약 50mm × 70mm   약 50mm × 90mm  약 50mm × 140mm 약 150mm × 140mm