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열물성 분석 제품

적외선가열로 · RTA장치

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적외선램프어닐링장치 RTA시리즈

2inch 에서 300mm까지의 고속 열처리. 유지까지 10초.
고속 가열 기술을 결집하여 연구 개발부터 생산용까지 고객의 요구에 부응하는 장비를 제공합니다.
최대 온도 1450℃의 고온 분위기에서 가열 가능합니다.
■ Rapid Thermal Annealing System RTA series   2inch 에서 300mm까지의 고속 열처리. 유지까지 10초. 고속 가열 기술을 결집하여 연구 개발부터 생산용까지 고객의 요구에 부응하는 장비를 제공합니다. 최대 온도 1450℃의 고온 분위기에서 가열 가능합니다.   High-speed heat treatments from 2-inches to 300 mm. ADVANCE-RIKO provides the systems that meet customers' needs, from research and development to production, through our comprehensive high-speed heating technologies. Heating at the maximum temperature of 1450 °C is also available. ​​ ■ 용도 LED 기판 어닐링 활성화 어닐링 SiC 웨이퍼의 어닐링 파워 디바이스의 어닐링 실리사이드 형성 · 살리사이드 형성 산화 분위기 대응 가능 LED substrate annealing Activation annealing Sic wafer annealing Power device annealing Silicide formation, salicide formation Capable of Measurement in oxidant atmosphere   ■ 특징 고속 열처리가 가능 Cold wall 구조이기 때문에, 중금속 오염이 없음 C to C 로봇 반송 시스템 대응 가능 제조 공정 장비와 결합 · 연결이 가능 High-speed heat treatments Free from heavy-metal construction due to cold wall construction Capable of supporting CtoC robot transfer system Combination with manufacturing process euipment   ■ 사양  모델 RTA-2000  RTA-4000  RTA-6000  RTA-8000  RTA-12000  온도 범위 실온 ~ 1000 ℃ (온도 범위도 지정 가능) 시료 치수 2in  4in  6in  8in  300mm  측정 분위기 각종 분위기 대응 가능 옵션 C to C 대응 전후 공정 장비와의 연결 사용자 정의