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적외선골드이미지로 Ps, Pss시리즈

탄소나노튜브의 생산 설비와 생산 장비까지 다양한 분야에서 사용할 수 있습니다.
평판 면상 방사형 적외선 가열로는 φ 2in ~ φ 300mm까지 웨이퍼용 어닐링 시스템과 생산용 소성로 등에 이용할 수 있습니다.

■  Infrared Gold Image Furnace Ps, Pss series

 

탄소나노튜브의 생산 설비와 생산 장비까지 다양한 분야에서 사용할 수 있습니다.
평판 면상 방사형 적외선 가열로는 φ 2in ~ φ 300mm까지 웨이퍼용 어닐링 시스템과 생산용 소성로 등에 이용할 수 있습니다.


Usable in wide range of fields from carbon nanotube growth systems to production systems.

Flat reflection type infrared furnaces can be used in systems like wafer annealing systems from φ 2-inches to φ 300 mm and production baking furnaces.

■ 용도

  • 대형 유리 기판 (태양전지, FDP 등)의 가열
  • 반도체 웨이퍼의 고온 고속가열
  • Heating large glass substrates (solar cells, flat display panels, etc.)
  • High-temperature, high-speed heating of semiconductor wafers

 

■ 특징

  • Ps 타입은 폭 40mm 반사면을 갖추었으며 Pss 타입은 폭 20mm 반사면에 고밀도 램프의 배치가 가능합니다.
  • Ps , Pss 타입 모두 반사면의 수를 늘려 넓은 면적을 가열 가능합니다.
  • The Ps type has a 40 mm wide reflector, the Pss type has a 20 mm wide reflector, which allows high density lamp placements.
  • Both the Ps type and Pss type can heat wide areas by increasing the number of reflectors.

 

■ 사양

 모델

Ps15V

Ps18V

Ps110V

Ps116V

열처리 영역

약 30mm × 50mm

 약 30mm × 70mm

약 30mm × 90mm

약 30mm × 140mm

            

 모델

Ps35V

Ps38V

Ps310V

Ps316V

열처리 영역

약 80mm × 50mm

 약 80mm × 70mm

약 80mm × 90mm

약 80mm × 140mm

 

 모델

Pss34V

Pss78V

Pss1108V

Pss35V

열처리 영역

약 50mm × 30mm 

 약 100mm × 70mm

약 100mm × 110mm

약 50mm × 50mm 

 

 모델

Pss38V

Pss310V

Pss316V

Pss98V

열처리 영역

약 50mm × 70mm 

 약 50mm × 90mm 

약 50mm × 140mm

약 150mm × 140mm