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탁상형램프가열장치 MILA-5050

이 장치는 시료 크기 50mm square까지의 열처리를 가능하게한 탁상형 램프가열장치입니다.
시료 치수 20mm square 까지의 가열장치로서 탁상형 램프가열장치 MILA-5000 시리즈를 출시 이후 많은 고객에게 애용하고 있지만, "좀 더 큰 시료의 열처리를 하고 싶다"는 고객의 요구에 부응하고 가열로 챔버 온도 컨트롤을 일체화한 컴팩트한 바디는 그대로, 50mm square까지의 열처리를 가능하게 했습니다.
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■ Mini Lamp Annealer MILA-5050

 

이 장치는 시료 크기 50mm square까지의 열처리를 가능하게한 탁상형 램프가열장치입니다. 
시료 치수 20mm square 까지의 가열장치로서 탁상형 램프가열장치 MILA-5000 시리즈를 출시 이후 많은 고객에게 애용하고 있지만, "좀 더 큰 시료의 열처리를 하고 싶다"는 고객의 요구에 부응하고 가열로 챔버 온도 컨트롤을 일체화한 컴팩트한 바디는 그대로, 50mm square까지의 열처리를 가능하게 했습니다.


■용도

  1. Si 웨이퍼, 화합물 웨이퍼의 고속 가열
  2. 광 CVD 기판 가열 등의 전자 재료의 고속 가열
  3. 유리 기판, 세라믹, 복합 재료 등의 열처리
  4. 열 사이클 시험
  5. 금속 재료의 소둔
  6. 코팅막의 내열성 평가
  7. 유기 재료, 수지류의 가열, 건조

 

■특징 

  1. 최대 W 50mm × L 50mm 크기까지의 시료의 열처리가 가능
  2. 최고 사용 온도는 1200 ℃
  3. 가열로 챔버 온도 제어 장치를 일체화한 탁상형 
  4. Cold Wall 구조에 의한 급속 가열 / 냉각과 깨끗한 가열이 가능
  5. 온도 레시피는 USB를 연결한 PC로 쉽게 입력
  6. 가열 중의 온도 데이터를 PC 화면에 표시 가능 (텍스트 파일로 저장 가능)

 

■사양

Temperature range

 

 Room temperature to 1200°C

 Sample size

 50 square or Φ50 x t5 (mm)

 Atmosphere

 Vacuum, Inert gas

 Heating rate

 50°C/s

 Temperature distribution

 1% or less (at 1000°C)