■ High Temperature Rapid Thermal Annealing System HT-RTA59HD
SiC 등 고가의 시료나 기타 고융점 재료의 조각 시료를 스폿 가열에 의한 높은 반사효율로서
초고온 영역 1800 ℃까지 승온 가능한 탁상형 초고온 램프 어닐링 장치입니다.
This desktop ultra-high temperature annealing system achieves high reflection efficiency by heating in a focused manner precious materials like SiC and other small materials with high melting points and is capable of heating up to ultra-high temperature range of 1800 °C
■ 용도
- SiC (GaN) 파워 디바이스 프로세스의 산화막 형성, 활성화 어닐링의 연구 · 개발
- 기타 반도체 공정의 연구 · 개발
- 유리, 세라믹, 복합 재료 등의 열처리
- 세라믹스 재료의 열충격 시험
- 고 융점 금속 재료의 소결 등 각종 열처리 시험
- 온도 구배로
- 가스 분석용 가열로
- Oxide film formation in SiC(GaN) power device process, Research and development of activation annealing
- Research and development of semiconductor process
- Heat treatment of glass substrate, ceramics, composite materials etc.
- Thermal shock tests of ceramics materials
- Various heat treatment tests such as sintering of metal materials with high melting points
- Usable as a temperature gradient furnace
- Usable as a heating furnace for gas analysis
■ 특징
- 초고온 1800 ℃까지 10초 가열이 가능
- 타원 반사면에 고출력 램프를 탑재한 스폿 집광로
- Cold Wall 구조에 의한 급속 가열 / 냉각과 크린 가열이 가능
- 가열로와 석영 챔버를 일체화한 탁상형
- 온도 레시피는 USB 연결한 PC에서 쉽게 입력
- 가열중의 온도 데이터를 PC 화면에 표시 가능 (텍스트 파일로 저장도 가능)
- Capable of heating up to ultra-high temperature of 1800 °C in 10 seconds
- Spot focused furnace with high-power lamps built on ellipsoidal reflective surface
- Cold Wall enables rapid-heating & cooling and clean-heating
- Desktop type with a heating furnace integrated with a quartz chamber
- Easy input of temperature recipe through PC connected with USB
- Capable of displaying temperature data on PC screen during the heating (Saving data in a text file is also available.)
■ 사양
모델 |
HT-RTA59HD |
온도 범위 |
실온 ~ 1800 ℃ (최고 2000 ℃) |
시료 크기 |
사각 15mm × 두께 1mm |
온도 센서 |
JIS B 열전대 (W-Re에도 대응 가능) |
소요 전원 |
AC 200V 40A 8kW |