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적외선가열로 · RTA장치

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적외선골드이미지로 Ps, Pss시리즈

탄소나노튜브의 생산 설비와 생산 장비까지 다양한 분야에서 사용할 수 있습니다.
평판 면상 방사형 적외선 가열로는 φ 2in ~ φ 300mm까지 웨이퍼용 어닐링 시스템과 생산용 소성로 등에 이용할 수 있습니다.

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■ Infrared Gold Image Furnace Ps, Pss series

Usable in wide range of fields from carbon nanotube growth systems to production systems.

Flat reflection type infrared furnaces can be used in systems like wafer annealing systems from φ 2-inches to φ 300 mm and production baking furnaces.

■ 용도

대형 유리 기판 (태양전지, FDP 등)의 가열
반도체 웨이퍼의 고온 고속가열
Heating large glass substrates (solar cells, flat display panels, etc.)
High-temperature, high-speed heating of semiconductor wafers

■ 특징

Ps 타입은 폭 40mm 반사면을 갖추었으며 Pss 타입은 폭 20mm 반사면에 고밀도 램프의 배치가 가능합니다.
Ps , Pss 타입 모두 반사면의 수를 늘려 넓은 면적을 가열 가능합니다.
The Ps type has a 40 mm wide reflector, the Pss type has a 20 mm wide reflector, which allows high density lamp placements.
Both the Ps type and Pss type can heat wide areas by increasing the number of reflectors.

■ 사양

모델	Ps15V	Ps18V	Ps110V	Ps116V
열처리 영역	약 30mm × 50mm	약 30mm × 70mm	약 30mm × 90mm	약 30mm × 140mm

모델	Ps35V	Ps38V	Ps310V	Ps316V
열처리 영역	약 80mm × 50mm	약 80mm × 70mm	약 80mm × 90mm	약 80mm × 140mm

모델	Pss34V	Pss78V	Pss1108V	Pss35V
열처리 영역	약 50mm × 30mm	약 100mm × 70mm	약 100mm × 110mm	약 50mm × 50mm

모델	Pss38V	Pss310V	Pss316V	Pss98V
열처리 영역	약 50mm × 70mm	약 50mm × 90mm	약 50mm × 140mm	약 150mm × 140mm

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