Ultra High Precision Thermal Expansion Measurement System by Laser Interferometer SuperLIX
1×10 -8 /K 이하의 팽창 정밀도
세계 최고봉의 초고정도 열팽창 측정 ※시판 양산형 계측 장치로서
< 용도 사례 >
제로 팽창 재료 개발
음극 음열 팽창 재료 개발
표준 재료 개발
액추에이터 재료 개발
Development of zero-expansion materials
Development of negative thermal expansion material and anode materials
Development of standard materials
Development of materials for actuator
용도
10-8 / K레벨의 극저팽창율 재료(유리, 세라믹스, 금속 등)의 고정밀도 팽창 측정 -반도체 생산에 있어서의 노광에 관한 부품의 측정 -정밀 스테이지 부품의 측정 -항공 우주 관계 고정밀도 요구 재료의 측정 -고정도 포토그램 기판용 부재의 측정
낮은 팽창률 재료의 품질 관리
High-precision dilatometry of materials with extremely low expansion rate such as 10-8/K
(glasses, ceramics, metal, etc.)
・ Spare parts of lithography system for semiconductor production ・ Spare parts of precision stage ・ Materials requiring high accuracy such as for aerospace industries ・ Materials for highly precise photogram substrate
Quality control of low expansion materials
특징
장치 내부에 제진 메카니즘을 내포함으로써 진동 외란의 영향을 방지할 수 있으며,
일반적인 분석용 전자천칭(분해능 0.01mg)을 안정적으로 사용할 수 있는 정도의 환경에서 측정할 수 있습니다.
레이저 파장(632.8nm)을 기준으로 시료의 변위량을 측정합니다. 광학 소자를 일체화하는 것으로 미광을 배제할 수 있어
간섭 줄무늬 신호의 S/N비가 향상하고 있습니다. 특별한 변위 교정을 위한 측정이나 조작은 필요하지 않습니다.
간섭 줄무늬를 이미지 센서로 검출하여 화상 처리함으로써 시료 측정 중에도 변위(팽창·수축)량을
고분해능으로 산출하여 팽창률을 확인할 수 있습니다.
사양
모델 형식
SuperLIX-R
온도 범위
표준형 5~50℃(고정도 항온 순환 시스템 사용)
샘플 치수
φ5 또는 □5±0.5mm×길이 20mm(표준 시료 치수 φ5×20mmL, 표준 시료로서 단면 R가공)
측정 분위기
감압 He 분위기
측정 방법
이중 광로식 마이클슨형 레이저 간섭 방식
(Dual path Michelson laser interferometry)
유틸리티
설치 바닥 면적
약 1200㎜(W)×760㎜(D)×1600mm(H) ※챔버 분리시 2500mm(H) 이상 스페이스가 필요합니다