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레이저 열팽창계 LIX시리즈

최소분해능 2nm의 초정밀 열팽창 측정.
낮은 열팽창 재료 및 각종 전자 부품의 정밀 팽창 측정이 가능합니다.
또한, 필름 두께 방향의 열팽창 측정도 가능합니다.
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■ Thermal Expansion Measurment System by Laser Interferometer LIX series

 

최소분해능 2nm의 초정밀 열팽창 측정.

낮은 열팽창 재료 및 각종 전자 부품의 정밀 팽창 측정이 가능합니다. 

또한, 필름 두께 방향의 열팽창 측정도 가능합니다. 

 

Ultra-precise thermal expansion measurements with a minimum resolution of 2 nm.

Precise expansion measurements of low-thermal expansion materials and electronic component materials can be performed. Also capable of performing expansion measurements in the film thickness direction.

 

■ 용도

  • ​​유기 필름의 두께 방향 열팽창 측정
  • 저 팽창 유리의 고정밀 팽창 측정
  • 봉지재의 팽창 측정
  • Expansion measurements in the thickness direction of organic films
  • High-precision expansion measurements of low-expansion glass
  • Expansion measurements of seal materials

  

■ 특징

  • 두께 50~500μm의 고분자 필름 재료의 두께 방향 측정이 가능
  • Capable of thickness direction measurements of polymer film materials 50 to 500 μm thick
    ※특허 및 표준
    Complies with JISR 3251-1995
    Parallel moving sample holder (patented)

 

■ 사양

 모델

LIX-2M

 LIX-2L

 측정 물성

열팽창

 온도 범위

실온 ~ 700 ℃

-150 ℃ ~ 200 ℃

 시료 치수

φ3 ~ 6㎜ × 길이 10㎜ ~ 15㎜, 길이 방향의 양단은 구면 마무리

 측정 분위기

 진공 
저압 고순도 He 가스