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적외선램프어닐링장치 RTA시리즈

2inch 에서 300mm까지의 고속 열처리. 유지까지 10초.
고속 가열 기술을 결집하여 연구 개발부터 생산용까지 고객의 요구에 부응하는 장비를 제공합니다.
최대 온도 1450℃의 고온 분위기에서 가열 가능합니다.
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■ Rapid Thermal Annealing System RTA series

 

2inch 에서 300mm까지의 고속 열처리. 유지까지 10초.
고속 가열 기술을 결집하여 연구 개발부터 생산용까지 고객의 요구에 부응하는 장비를 제공합니다.

최대 온도 1450℃의 고온 분위기에서 가열 가능합니다.

 

High-speed heat treatments from 2-inches to 300 mm.

ADVANCE-RIKO provides the systems that meet customers' needs, from research and development to production, through our comprehensive high-speed heating technologies.

Heating at the maximum temperature of 1450 °C is also available.

​​

■ 용도

  • LED 기판 어닐링
  • 활성화 어닐링
  • SiC 웨이퍼의 어닐링
  • 파워 디바이스의 어닐링
  • 실리사이드 형성 · 살리사이드 형성
  • 산화 분위기 대응 가능
  • LED substrate annealing
  • Activation annealing
  • Sic wafer annealing
  • Power device annealing
  • Silicide formation, salicide formation
  • Capable of Measurement in oxidant atmosphere

 

■ 특징

  • 고속 열처리가 가능
  • Cold wall 구조이기 때문에, 중금속 오염이 없음
  • C to C 로봇 반송 시스템 대응 가능
  • 제조 공정 장비와 결합 · 연결이 가능
  • High-speed heat treatments
  • Free from heavy-metal construction due to cold wall construction
  • Capable of supporting CtoC robot transfer system
  • Combination with manufacturing process euipment

 

■ 사양

 모델

RTA-2000

 RTA-4000

 RTA-6000

 RTA-8000

 RTA-12000

 온도 범위

실온 ~ 1000 ℃ (온도 범위도 지정 가능)

시료 치수

2in

 4in

 6in

 8in

 300mm

 측정 분위기

각종 분위기 대응 가능

옵션

C to C 대응 
전후 공정 장비와의 연결 
사용자 정의